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MDA-400LJ/600LJ光刻機

  • MDA-400LJ/600LJ光刻機
MDA-400LJ/600LJ光刻機

MDA-400LJ/600LJ光刻機

    • 產品描述:MDA-400LJ/600LJ光刻機
MDA-400LJ/600LJ光刻機
光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統,光刻機,紫外曝光機等;
MIDAS為全球領先的半導體設備供應商,多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發與生產,并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域;該公司是目前世界上最早將光刻機商品化的公司之一,擁有雄厚的技術研發力量和設備生產能力;并且其設備被眾多著名企業、研發中心、研究所和高校所采用;以優秀的技術、精湛的工藝和良好的服務,贏得了用戶的青睞。

產地:韓國MIDAS公司,唯一能做到圖形化藍寶石襯底(PSS)光刻機,高性價比
型號:MDA-400LJ/600LJ光刻機 光刻機

MDA-400LJ

操作安裝方便,可處理各種尺寸的基板,采用UV-LED曝光模塊,UV-LED壽命長

?手動操作

?掩模版尺寸達5英寸

?基板尺寸為4英寸圓形

?均勻性光束尺寸125mm圓

?UV光源UV LED

?光束波長365 nm

?光束均勻性<±3%

?365 nm強度 ~20 mW/?

?手動對準

?對準精度1 um

?操作模式軟、硬、真空接觸和接近

?工藝分辨率:1 um@1 um PR厚度,真空接觸

?尺寸(mm)800(寬)*800(深)*800(高)


MDA-600LJ

操作安裝方便,可處理各種尺寸的基板,采用UV-LED曝光模塊,UV-LED壽命長

?手動操作

?掩模版尺寸高達7英寸

?基板尺寸為6英寸圓形

?均勻光束尺寸170 mm圓

?UV光源:UV LED

?光束波長365 nm

?光束均勻性<±5%

?365 nm強度 ~20 mW/?

?手動對準

?對準精度1 um

?操作模式:軟、硬、真空接觸和接近

?工藝分辨率 1 um@1 um PR厚度,真空接觸

?重量(kg)150

?尺寸(mm)800(寬)*800(深)*800(高)



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